<progress id="vpiiv"></progress>
  • <th id="vpiiv"></th><dd id="vpiiv"></dd>

      <em id="vpiiv"><acronym id="vpiiv"><u id="vpiiv"></u></acronym></em>

      <th id="vpiiv"></th>

      深圳市賡旭光電科技有限公司

      專業濾光片生產廠家

      專注濾光片15年

      服務熱線

      075528052697

      磁控濺射鍍膜的原理和作用

      深圳市賡旭光電專業濾光片生產廠家,歡迎定制采購! 

      濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在異常輝光 放電產生的等離子體在電場的作用下,對陰極靶 材表面進行轟擊,把靶材表面的分子、原子、離子 及電子等濺射出來,被濺射出來的粒子帶有一定 的動能,沿一定的方向射向基體表面,在基體表 面形成鍍層。

      磁控濺射鍍膜

      濺射鍍膜最初出現的是簡單的直流二極濺 射,它的優點是裝置簡單,但是直流二極濺射沉 積速率低;為了保持自持放電,不能在低氣壓 (<0.1 Pa)下進行;不能濺射絕緣材料等缺點限 制了其應用。在直流二極濺射裝置中增加一個 熱陰極和輔助陽極,就構成直流三極濺射。增加 的熱陰極和輔助陽極產生的熱電子增強了濺射 氣體原子的電離,這樣使濺射即使在低氣壓下 也能進行;另外,還可降低濺射電壓,使濺射在低 氣壓,低電壓狀態下進行;同時放電電流也增大, 并可獨立控制,不受電壓影響。在熱陰極的前面 增加一個電極(柵網狀),構成四極濺射裝置,可 使放電趨于穩定。但是這些裝置難以獲得濃度較 高的等離子體區,沉積速度較低,因而未獲得廣 泛的工業應用。

      磁控濺射是由二極濺射基礎上發展而來,在 靶材表面建立與電場正交磁場,解決了二極濺射 沉積速率低,等離子體離化率低等問題,成為目 前鍍膜工業主要方法之一。磁控濺射與其它鍍膜 技術相比具有如下特點:可制備成靶的材料廣, 幾乎所有金屬,合金和陶瓷材料都可以制成靶 材;在適當條件下多元靶材共濺射方式,可沉積配比精確恒定的合金;在濺射的放電氣氛中加入 氧、氮或其它活性氣體,可沉積形成靶材物質與 氣體分子的化合物薄膜;通過精確地控制濺射鍍 膜過程,容易獲得均勻的高精度的膜厚;通過離 子濺射靶材料物質由固態直接轉變為等離子態, 濺射靶的安裝不受限制,適合于大容積鍍膜室多 靶布置設計;濺射鍍膜速度快,膜層致密,附著性 好等特點,很適合于大批量,高效率工業生產。近 年來磁控濺射技術發展很快,具有代表性的方法 有射頻濺射、反應磁控濺射、非平衡磁控濺射、脈 沖磁控濺射、高速濺射等。

      微信

      聯系地址:深圳市龍華區福城街道大富路硅谷動力第十園深圳市低碳科技示范園A8棟

      總部電話:0755-28052697  傳真號碼:0755-28053245

      手機號碼:13823235913   企業郵箱:info@szgladsome.com

      Copyright ? 深圳市賡旭光電科技有限公司 All Rights Reserved 版權 備案號:粵ICP備14023905號-1   技術支持:迪翼網
      国产在线第一_好爽好硬进去了好紧视频_70老少配另类bbw_久久久久掩去掩也去了